•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Study and Improvement on Tungsten Plug Corrosion in CMP Process for PCRAM

نویسنده:
Ying Li
,
Zhitang Song
,
Bo Liu
,
Guanping Wu
,
Songlin Feng
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/TSM.2013.2295163
یو آر آی: https://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/964447
کلیدواژه(گان): chemical mechanical polishing,electrochemical electrodes,failure analysis,phase change memories,planarisation,slurries,tungsten,BEC,CMP process,PCRAM,W,acidic buff slurry effect,alkali buff slurry effect,bottom electrode contact,chemical mechanical planarization,failure mode,phase change random access memory,size formation,tungsten plug corrosion,tungsten polishing step process,Corrosion,Films,Phase change random access memory,Plugs,Resistance,Slurries,Tungsten,Chemica
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Study and Improvement on Tungsten Plug Corrosion in CMP Process for PCRAM

Show full item record

contributor authorYing Li
contributor authorZhitang Song
contributor authorBo Liu
contributor authorGuanping Wu
contributor authorSonglin Feng
date accessioned2020-03-12T18:36:57Z
date available2020-03-12T18:36:57Z
date issued2014
identifier issn0894-6507
identifier other6689345.pdf
identifier urihttps://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/964447
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleStudy and Improvement on Tungsten Plug Corrosion in CMP Process for PCRAM
typeJournal Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid7997949
subject keywordschemical mechanical polishing
subject keywordselectrochemical electrodes
subject keywordsfailure analysis
subject keywordsphase change memories
subject keywordsplanarisation
subject keywordsslurries
subject keywordstungsten
subject keywordsBEC
subject keywordsCMP process
subject keywordsPCRAM
subject keywordsW
subject keywordsacidic buff slurry effect
subject keywordsalkali buff slurry effect
subject keywordsbottom electrode contact
subject keywordschemical mechanical planarization
subject keywordsfailure mode
subject keywordsphase change random access memory
subject keywordssize formation
subject keywordstungsten plug corrosion
subject keywordstungsten polishing step process
subject keywordsCorrosion
subject keywordsFilms
subject keywordsPhase change random access memory
subject keywordsPlugs
subject keywordsResistance
subject keywordsSlurries
subject keywordsTungsten
subject keywordsChemica
identifier doi10.1109/TSM.2013.2295163
journal titleSemiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on
journal volume27
journal issue1
filesize7620795
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace