•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

A Novel Quasi-3-D Interface-Trapped-Charge-Induced Threshold Voltage Model for Quadruple-Gate MOSFETs, Including Equivalent Number of Gates

نویسنده:
Chiang Te-Kuang
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/TED.2014.2312922
یو آر آی: https://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1128481
کلیدواژه(گان): MOSFET,elemental semiconductors,interface states,semiconductor device models,silicon,Si,hot-carrier-induced threshold voltage,memory device,negative trapped charges,quadruple-gate MOSFET,quasi-3-D interface-trapped-charge-induced threshold voltage model,thin gate oxide,threshold voltage degradation,Logic gates,MOSFET,Mathematical model,Semiconductor device modeling,Silicon,Threshold voltage,Bulk scaling equation,equivalent number of gates (ENG),interface-trapped-charge-induc
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    A Novel Quasi-3-D Interface-Trapped-Charge-Induced Threshold Voltage Model for Quadruple-Gate MOSFETs, Including Equivalent Number of Gates

Show full item record

contributor authorChiang Te-Kuang
date accessioned2020-03-12T23:55:55Z
date available2020-03-12T23:55:55Z
date issued2014
identifier issn0018-9383
identifier other6782652.pdf
identifier urihttps://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1128481
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleA Novel Quasi-3-D Interface-Trapped-Charge-Induced Threshold Voltage Model for Quadruple-Gate MOSFETs, Including Equivalent Number of Gates
typeJournal Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8308652
subject keywordsMOSFET
subject keywordselemental semiconductors
subject keywordsinterface states
subject keywordssemiconductor device models
subject keywordssilicon
subject keywordsSi
subject keywordshot-carrier-induced threshold voltage
subject keywordsmemory device
subject keywordsnegative trapped charges
subject keywordsquadruple-gate MOSFET
subject keywordsquasi-3-D interface-trapped-charge-induced threshold voltage model
subject keywordsthin gate oxide
subject keywordsthreshold voltage degradation
subject keywordsLogic gates
subject keywordsMOSFET
subject keywordsMathematical model
subject keywordsSemiconductor device modeling
subject keywordsSilicon
subject keywordsThreshold voltage
subject keywordsBulk scaling equation
subject keywordsequivalent number of gates (ENG)
subject keywordsinterface-trapped-charge-induc
identifier doi10.1109/TED.2014.2312922
journal titleElectron Devices, IEEE Transactions on
journal volume61
journal issue5
filesize973665
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace