•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Overlay-aware detailed routing for self-aligned double patterning lithography using the cut process

نویسنده:
Iou-Jen Liu , Shao-Yun Fang , Yao-Wen Chang
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/ICRERA.2014.7016559
یو آر آی: https://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1020628
کلیدواژه(گان): government policies,power system economics,renewable energy sources,DR system,EMS,ESS,Korea,convergent power system,demand response system,efficient energy use,energy management system,energy storage system,information and communication technology,potential business model,renewable energy industry,renewable energy policy,renewable energy source,unstable power supply,Air pollution,Government,Green products,Industries,Investment,Power generation,Renewable energy sources,EM
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Overlay-aware detailed routing for self-aligned double patterning lithography using the cut process

Show full item record

contributor authorIou-Jen Liu , Shao-Yun Fang , Yao-Wen Chang
date accessioned2020-03-12T20:38:54Z
date available2020-03-12T20:38:54Z
date issued2014
identifier other6881377.pdf
identifier urihttps://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1020628
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleOverlay-aware detailed routing for self-aligned double patterning lithography using the cut process
typeConference Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8145156
subject keywordsgovernment policies
subject keywordspower system economics
subject keywordsrenewable energy sources
subject keywordsDR system
subject keywordsEMS
subject keywordsESS
subject keywordsKorea
subject keywordsconvergent power system
subject keywordsdemand response system
subject keywordsefficient energy use
subject keywordsenergy management system
subject keywordsenergy storage system
subject keywordsinformation and communication technology
subject keywordspotential business model
subject keywordsrenewable energy industry
subject keywordsrenewable energy policy
subject keywordsrenewable energy source
subject keywordsunstable power supply
subject keywordsAir pollution
subject keywordsGovernment
subject keywordsGreen products
subject keywordsIndustries
subject keywordsInvestment
subject keywordsPower generation
subject keywordsRenewable energy sources
subject keywordsEM
identifier doi10.1109/ICRERA.2014.7016559
journal titleesign Automation Conference (DAC), 2014 51st ACM/EDAC/IEEE
filesize277796
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace