•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Built-in Effective Body-Bias Effect in Ultra-Thin-Body Hetero-Channel III—V-on-Insulator n-MOSFETs

نویسنده:
Chang-Hung Yu
,
Pin Su
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/LED.2014.2328628
یو آر آی: https://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1136936
کلیدواژه(گان): MOSFET,conduction bands,permittivity,semiconductor-insulator boundaries,conduction band,drain induced barrier lowering,effective body-bias effect,electron affinity,electrostatic integrity,ultra-thin-body hetero-channel n-MOSFET,Electrostatics,Logic gates,MOSFET,MOSFET circuits,Permittivity,Silicon,Threshold voltage,III-V,Ultra-thin-body (UTB),drain-induced-barrier-lowering (DIBL),electrostatic integrity (EI),electrostatic integrity (EI).,hetero-channel
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Built-in Effective Body-Bias Effect in Ultra-Thin-Body Hetero-Channel III—V-on-Insulator n-MOSFETs

Show full item record

contributor authorChang-Hung Yu
contributor authorPin Su
date accessioned2020-03-13T00:10:15Z
date available2020-03-13T00:10:15Z
date issued2014
identifier issn0741-3106
identifier other6840963.pdf
identifier urihttps://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1136936
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleBuilt-in Effective Body-Bias Effect in Ultra-Thin-Body Hetero-Channel III—V-on-Insulator n-MOSFETs
typeJournal Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8318725
subject keywordsMOSFET
subject keywordsconduction bands
subject keywordspermittivity
subject keywordssemiconductor-insulator boundaries
subject keywordsconduction band
subject keywordsdrain induced barrier lowering
subject keywordseffective body-bias effect
subject keywordselectron affinity
subject keywordselectrostatic integrity
subject keywordsultra-thin-body hetero-channel n-MOSFET
subject keywordsElectrostatics
subject keywordsLogic gates
subject keywordsMOSFET
subject keywordsMOSFET circuits
subject keywordsPermittivity
subject keywordsSilicon
subject keywordsThreshold voltage
subject keywordsIII-V
subject keywordsUltra-thin-body (UTB)
subject keywordsdrain-induced-barrier-lowering (DIBL)
subject keywordselectrostatic integrity (EI)
subject keywordselectrostatic integrity (EI).
subject keywordshetero-channel
identifier doi10.1109/LED.2014.2328628
journal titleElectron Device Letters, IEEE
journal volume35
journal issue8
filesize771245
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace