•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Where should I publish? Detecting journal similarity based on what have been published there

نویسنده:
Koopman, Rob
,
Wang, Shenghui
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/IWJT.2014.6842043
یو آر آی: https://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1068006
کلیدواژه(گان): MOSFET,n annealing,n doping,n plasma materials processing,n surface treatment,n titanium compounds,n work function,n FinFET,n MOSCAP wafer,n PLAD,n TiN,n blanket metal film stack,n multivoltage tuning,n p-metal gate work function modulation,n planar MOS capacitor wafer,n planar device,n plasma doping,n sidewall doping,n silicon trench structure,n Doping,n Hydrogen,n Logic gates,n Plasmas,n Tin,n Tuning
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Where should I publish? Detecting journal similarity based on what have been published there

Show full item record

contributor authorKoopman, Rob
contributor authorWang, Shenghui
date accessioned2020-03-12T22:00:10Z
date available2020-03-12T22:00:10Z
date issued2014
identifier other6970236.pdf
identifier urihttps://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1068006
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleWhere should I publish? Detecting journal similarity based on what have been published there
typeConference Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8202946
subject keywordsMOSFET
subject keywordsn annealing
subject keywordsn doping
subject keywordsn plasma materials processing
subject keywordsn surface treatment
subject keywordsn titanium compounds
subject keywordsn work function
subject keywordsn FinFET
subject keywordsn MOSCAP wafer
subject keywordsn PLAD
subject keywordsn TiN
subject keywordsn blanket metal film stack
subject keywordsn multivoltage tuning
subject keywordsn p-metal gate work function modulation
subject keywordsn planar MOS capacitor wafer
subject keywordsn planar device
subject keywordsn plasma doping
subject keywordsn sidewall doping
subject keywordsn silicon trench structure
subject keywordsn Doping
subject keywordsn Hydrogen
subject keywordsn Logic gates
subject keywordsn Plasmas
subject keywordsn Tin
subject keywordsn Tuning
identifier doi10.1109/IWJT.2014.6842043
journal titleigital Libraries (JCDL), 2014 IEEE/ACM Joint Conference on
filesize210450
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace