•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Coordinated beamforming with dynamic clustering: A stochastic geometry approach

نویسنده:
Namyoon Lee , Heath, R.W. , Morales-Jimenez, D. , Lozano, A.
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/ICPT.2014.7017286
یو آر آی: https://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1021749
کلیدواژه(گان): chemical mechanical polishing,cobalt,copper,corrosion inhibitors,pH,slurries,tantalum,CMP post cleaning step,CMP slurry,Co,Cu,Ta,chelating agent,chemical mechanical polishing,cobalt,copper,corrosion inhibitor,electrochemical behavior,electrochemical screening,galvanic corrosion,metal surfaces,pH value,surface protection,tantalum,Chemicals,Cobalt,Copper,Corrosion,Corrosion inhibitors,Slurries
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Coordinated beamforming with dynamic clustering: A stochastic geometry approach

Show full item record

date accessioned2020-03-12T20:40:58Z
date available2020-03-12T20:40:58Z
date issued2014
identifier other6883644.pdf
identifier urihttps://libsearch.um.ac.ir:443/fum/handle/fum/1021749
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleCoordinated beamforming with dynamic clustering: A stochastic geometry approach
typeConference Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8146450
subject keywordschemical mechanical polishing
subject keywordscobalt
subject keywordscopper
subject keywordscorrosion inhibitors
subject keywordspH
subject keywordsslurries
subject keywordstantalum
subject keywordsCMP post cleaning step
subject keywordsCMP slurry
subject keywordsCo
subject keywordsCu
subject keywordsTa
subject keywordschelating agent
subject keywordschemical mechanical polishing
subject keywordscobalt
subject keywordscopper
subject keywordscorrosion inhibitor
subject keywordselectrochemical behavior
subject keywordselectrochemical screening
subject keywordsgalvanic corrosion
subject keywordsmetal surfaces
subject keywordspH value
subject keywordssurface protection
subject keywordstantalum
subject keywordsChemicals
subject keywordsCobalt
subject keywordsCopper
subject keywordsCorrosion
subject keywordsCorrosion inhibitors
subject keywordsSlurries
identifier doi10.1109/ICPT.2014.7017286
journal titleommunications (ICC), 2014 IEEE International Conference on
filesize171523
citations0
contributor rawauthorNamyoon Lee , Heath, R.W. , Morales-Jimenez, D. , Lozano, A.
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace