•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Cavity formation in bonded silicon wafers using partially cured dry etch bisbenzocyclobutene (BCB)

نویسنده:
Bakhtazad, A. , Manwar, R. , Chowdhury, S.
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/ISSOC.2014.6972434
یو آر آی: http://libsearch.um.ac.ir:80/fum/handle/fum/990124
کلیدواژه(گان): Message systems,Topology
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Cavity formation in bonded silicon wafers using partially cured dry etch bisbenzocyclobutene (BCB)

Show full item record

contributor authorBakhtazad, A. , Manwar, R. , Chowdhury, S.
date accessioned2020-03-12T19:47:18Z
date available2020-03-12T19:47:18Z
date issued2014
identifier other6820298.pdf
identifier urihttp://libsearch.um.ac.ir:80/fum/handle/fum/990124
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleCavity formation in bonded silicon wafers using partially cured dry etch bisbenzocyclobutene (BCB)
typeConference Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8106532
subject keywordsMessage systems
subject keywordsTopology
identifier doi10.1109/ISSOC.2014.6972434
journal titleircuits and Systems (LASCAS), 2014 IEEE 5th Latin American Symposium on
filesize1368067
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace