•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Poly Si Nanowire Thin Film Transistors With Vacuum Gap Design

نویسنده:
Tsung-Kuei Kang
,
Ysung-Yu Yang
,
Feng-Tso Chien
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/TED.2014.2318706
یو آر آی: http://libsearch.um.ac.ir:80/fum/handle/fum/1132306
کلیدواژه(گان): elemental semiconductors,etching,hot carriers,insulators,leakage currents,nanowires,semiconductor device reliability,silicon,thin film transistors,titanium compounds,vacuum microelectronics,Si,TiN,TiN layer,channel spacer surface,channel surface,dc hot-carrier stress,device reliability,electric field,electrical field,embedded vacuum gaps,gate-drain bias,insulator,inversion layer,kink effect,leakage current,offset region,poly Si nanowire,selective etching technique,sh
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Poly Si Nanowire Thin Film Transistors With Vacuum Gap Design

Show full item record

contributor authorTsung-Kuei Kang
contributor authorYsung-Yu Yang
contributor authorFeng-Tso Chien
date accessioned2020-03-13T00:02:33Z
date available2020-03-13T00:02:33Z
date issued2014
identifier issn0018-9383
identifier other6812163.pdf
identifier urihttp://libsearch.um.ac.ir:80/fum/handle/fum/1132306
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titlePoly Si Nanowire Thin Film Transistors With Vacuum Gap Design
typeJournal Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8313260
subject keywordselemental semiconductors
subject keywordsetching
subject keywordshot carriers
subject keywordsinsulators
subject keywordsleakage currents
subject keywordsnanowires
subject keywordssemiconductor device reliability
subject keywordssilicon
subject keywordsthin film transistors
subject keywordstitanium compounds
subject keywordsvacuum microelectronics
subject keywordsSi
subject keywordsTiN
subject keywordsTiN layer
subject keywordschannel spacer surface
subject keywordschannel surface
subject keywordsdc hot-carrier stress
subject keywordsdevice reliability
subject keywordselectric field
subject keywordselectrical field
subject keywordsembedded vacuum gaps
subject keywordsgate-drain bias
subject keywordsinsulator
subject keywordsinversion layer
subject keywordskink effect
subject keywordsleakage current
subject keywordsoffset region
subject keywordspoly Si nanowire
subject keywordsselective etching technique
subject keywordssh
identifier doi10.1109/TED.2014.2318706
journal titleElectron Devices, IEEE Transactions on
journal volume61
journal issue6
filesize2963387
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace