•  Persian
    • Persian
    • English
  •   ورود
  • دانشگاه فردوسی مشهد
  • |
  • مرکز اطلاع‌رسانی و کتابخانه مرکزی
    • Persian
    • English
  • خانه
  • انواع منابع
    • مقاله مجله
    • کتاب الکترونیکی
    • مقاله همایش
    • استاندارد
    • پروتکل
    • پایان‌نامه
  • راهنمای استفاده
View Item 
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  •   کتابخانه دیجیتال دانشگاه فردوسی مشهد
  • Fum
  • Articles
  • Latin Articles
  • View Item
  • همه
  • عنوان
  • نویسنده
  • سال
  • ناشر
  • موضوع
  • عنوان ناشر
  • ISSN
  • شناسه الکترونیک
  • شابک
جستجوی پیشرفته
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Towards Interoperability of Adaptive Social-Aware Routing at the Tactical Edge

نویسنده:
Gao, Wei
,
Patel, Mitesh
ناشر:
IEEE
سال
: 2014
شناسه الکترونیک: 10.1109/ULIS.2014.6813908
یو آر آی: http://libsearch.um.ac.ir:80/fum/handle/fum/1059260
کلیدواژه(گان): CMOS integrated circuits,n hafnium compounds,n high-k dielectric thin films,n silicon compounds,n thulium compounds,n voltage control,n CMOS technology,n CMOS-compatible process,n EOT,n TmSiO-HfO<,sub>,2<,/sub>,n channel mobility,n device reliability,n dielectric capping layers,n dielectric stack,n dual-metal process,n effective work function control,n gate metal,n gate-first integration schemes,n gate-last integration schemes,n h
کالکشن :
  • Latin Articles
  • نمایش متادیتا پنهان کردن متادیتا
  • آمار بازدید

    Towards Interoperability of Adaptive Social-Aware Routing at the Tactical Edge

Show full item record

contributor authorGao, Wei
contributor authorPatel, Mitesh
date accessioned2020-03-12T21:45:18Z
date available2020-03-12T21:45:18Z
date issued2014
identifier other6956915.pdf
identifier urihttp://libsearch.um.ac.ir:80/fum/handle/fum/1059260
formatgeneral
languageEnglish
publisherIEEE
titleTowards Interoperability of Adaptive Social-Aware Routing at the Tactical Edge
typeConference Paper
contenttypeMetadata Only
identifier padid8190792
subject keywordsCMOS integrated circuits
subject keywordsn hafnium compounds
subject keywordsn high-k dielectric thin films
subject keywordsn silicon compounds
subject keywordsn thulium compounds
subject keywordsn voltage control
subject keywordsn CMOS technology
subject keywordsn CMOS-compatible process
subject keywordsn EOT
subject keywordsn TmSiO-HfO<
subject keywordssub>
subject keywords2<
subject keywords/sub>
subject keywordsn channel mobility
subject keywordsn device reliability
subject keywordsn dielectric capping layers
subject keywordsn dielectric stack
subject keywordsn dual-metal process
subject keywordsn effective work function control
subject keywordsn gate metal
subject keywordsn gate-first integration schemes
subject keywordsn gate-last integration schemes
subject keywordsn h
identifier doi10.1109/ULIS.2014.6813908
journal titleilitary Communications Conference (MILCOM), 2014 IEEE
filesize650488
citations0
  • درباره ما
نرم افزار کتابخانه دیجیتال "دی اسپیس" فارسی شده توسط یابش برای کتابخانه های ایرانی | تماس با یابش
DSpace software copyright © 2019-2022  DuraSpace